真空焼鈍炉
高温真空アニール炉
精密な熱処理向けに設計された高温真空アニール炉。真空および強磁場下での軟磁性材料加工に対応します。
製品を見る製品カタログ
真空プロセス・薄膜成膜
次の発見を支える精密機器とシステム。
真空プロセス・薄膜成膜
24 製品
真空焼鈍炉
高温磁場アニール炉 (HTA シリーズ)
Vectomag HTA シリーズ炉は、磁性材料研究向けに、真空制御を伴う精密な高温磁場アニールを提供します。
製品を見る
PVD コーティング装置
高純度マグネトロンスパッタリング成膜システム
ナノ・マイクロ構造薄膜の作製用に設計されたマグネトロンスパッタリングシステム。柔軟なデュアルターゲットモードで金属、酸化物、窒化物、誘電体膜の堆積に対応します。
製品を見る
PVD コーティング装置
レーザー分子線エピタキシー（MBE）システム
レーザーMBEシステムは、先端材料R&D向けに高融点、多元素、ガス含有材料などの複雑な薄膜のエピタキシャル成長を可能にします。
製品を見る
PVD コーティング装置
洋ナシ形単室マグネトロンスパッタ成膜装置
ナノスケールの単層・多層薄膜向けに設計されたコンパクトなスパッタ成膜装置。学術研究や小規模な薄膜製作に適しています。
製品を見る
結晶材料作製
炭化ケイ素（SiC）結晶成長炉
誘導加熱と物理気相輸送（PVT）でSiC粉末を昇華させ、高純度の6インチ炭化ケイ素結晶を成長させるSiC結晶成長炉です。
製品を見る
PVD コーティング装置
単室式マグネトロンスパッタリングシステム
ナノ・マイクロ薄膜の均一堆積用に設計された単室式スパッタリングシステム。金属、誘電体、多層膜の研究に対応します。
製品を見る
PVD コーティング装置
角形4室マグネトロンスパッタリングシステム
大面積薄膜成膜向けに設計された4室マグネトロンスパッタリングシステム。高真空または低真空下で結晶シリコンへの逐次または反応性金属堆積を実現します。
製品を見る
PVD コーティング装置
熱蒸着真空成膜装置
抵抗加熱で金属、酸化物、半導体、有機膜を堆積する熱蒸着真空成膜装置。研究と生産前試験に最適です。
製品を見る
太陽電池製造
薄膜太陽電池作製システム（連続式）
銅、インジウム、ガリウム、セレンなどのCIGS材料を用いた薄膜太陽電池のR&Dとパイロット規模生産向けに設計。連続真空処理に対応します。
製品を見る
真空焼結炉
真空ホットプレス焼結炉
雰囲気制御、加圧成形、高温焼結を統合した真空ホットプレス焼結炉。粉末冶金やセラミック材料の研究に最適です。
製品を見る
真空メルトスピニング
急冷凝固用真空メルトスピニングシステム
急冷凝固向けに設計された真空メルトスピニングシステム。アモルファス合金、ナノ構造リボン、先端磁性材料の製作を実現します。
製品を見る