低温プローブステーション
1D面内磁場プローブステーション
±1%の均一性と0.02 mTの分解能で安定した1D面内磁場を提供する高精度極低温プローブステーション。材料試験に適しています。
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低温プローブステーション
次の発見を支える精密機器とシステム。
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低温プローブステーション
1D垂直磁場プローブステーション
均一な1D垂直磁場 (±1%@⌀2 mm) と高分解能磁場監視 (0.02 mT) を提供する極低温プローブステーション。
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低温プローブステーション
2D磁場極低温プローブステーション
±1%の均一性と0.02 mTの分解能で垂直磁場と面内磁場を提供する2軸極低温プローブステーション。半導体試験に適しています。
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低温プローブステーション
3D磁場極低温プローブステーション
多軸磁場制御と低温試験を可能にする汎用性の高い極低温プローブステーション。半導体、MEMS、超伝導材料に適しています。
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低温プローブステーション
LNPS-80 低温プローブステーション
LNPS-80 低温プローブステーションは、高い安定性とモジュール設計により、80 K から 425 K までの精密な DC、RF、マイクロ波試験を実現します。
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低温プローブステーション
標準極低温プローブステーション
低温環境で半導体、スピントロニクス、マイクロ・ナノデバイスの電気・磁気試験を行う精密極低温プローブステーション。
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低温プローブステーション
汎用磁場プローブステーション
最大330 mTの面内磁場下で、半導体およびスピントロニクスデバイスの磁気・電気特性を試験する高精度プローブステーション。
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低温プローブステーション
ウェハーレベル面内磁場プローブステーション
面内磁場制御、±1%の磁場均一性、リアルタイムフィードバック、0.02 mTの分解能を備えた自動ウェハーレベルプローブステーション。
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低温プローブステーション
ウェハーレベル垂直磁場プローブステーション
垂直磁場、±1%の磁場均一性、0.02 mTの分解能を備えた高精度ウェハーレベルプローブステーション。極低温材料試験用に設計されています。
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