薄膜成長装置
原子層堆積（ALD）システム
ALD技術による超薄膜誘電体の成長用に設計。原子スケールの精度を要するAl₂O₃、ZnO、透明導電性酸化物膜に最適です。
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真空プロセス・薄膜成膜
次の発見を支える精密機器とシステム。
真空プロセス・薄膜成膜
24 製品
PVD コーティング装置
CMT-300 精密レーザー成膜システム
CMT - 300レーザー成膜システムは、学術およびR & Dの薄膜用途向けに、超伝導、半導体、強誘電体膜の高精度堆積を可能にします。
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PVD コーティング装置
CMT-450A 高エネルギーレーザー成膜装置
R & D およびパイロット規模の生産における超伝導、半導体、強誘電体薄膜の製作向けに設計された高エネルギーレーザー成膜システム。
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PVD コーティング装置
CMT-450B 先進レーザー成膜システム
CMT - 450B レーザー成膜システムは、超伝導、半導体、機能性薄膜の精密な成膜を実現します。研究と試作に最適です。
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真空メルトスピニング
CMT-500e 電気アーク真空メルトスピナー
CMT - 500e は、高融点金属のアーク溶解と、真空条件下でのメルトスピニングまたは吸引鋳造による合金リボン製造向けに設計されています。
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真空メルトスピニング
CMT-500p 精密真空メルトスピニング装置
CMT-500p は、真空条件下での高速メルトスピニングとスプレー鋳造を実現します。R & D 環境でのアモルファス合金リボンやバルク材料の製造に最適です。
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真空メルトスピニング
CMT-500vt 真空紡糸システム
CMT-500vt は、誘導溶解、メルトスピニング、スプレー鋳造を統合した真空溶融引き出しシステムで、極細繊維やフィラメントを製造します。
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PVD コーティング装置
薄膜用コンパクトマグネトロンスパッタリングシステム
ナノメートルスケールの膜作製用コンパクトマグネトロンスパッタリングシステム。学術およびR&D環境での金属、誘電体、半導体コーティングに適しています。
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PVD コーティング装置
二室式梨形マグネトロンスパッタリングシステム
R & D向けに金属、半導体、誘電体コーティングなどの多層薄膜を精密に堆積する二室式梨形マグネトロンスパッタリングシステムです。
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真空アーク再溶解炉
電気アーク真空再溶解炉
真空条件下で高融点金属・合金を精製する炉で、吸引鋳造によるアモルファス材料や先端材料のインゴット製造に対応します。
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PVD コーティング装置
電子ビーム蒸着成膜システム
導電膜、光学膜、半導体膜の精密成膜に使用され、実験室環境で研究グレードの熱真空蒸着を支援するシステム。
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PVD コーティング装置
電子ビーム物理気相成長（EB - PVD）システム
EB - PVDシステムは、270º電子ビーム加熱とプラズマ支援表面洗浄を用いて、高融点金属およびセラミックスの高効率気相堆積を行います。
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