PVD コーティング装置
CMT-300 精密レーザー成膜システム
CMT - 300レーザー成膜システムは、学術およびR & Dの薄膜用途向けに、超伝導、半導体、強誘電体膜の高精度堆積を可能にします。
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PVD コーティング装置
次の発見を支える精密機器とシステム。
PVD コーティング装置
13 製品
PVD コーティング装置
CMT-450A 高エネルギーレーザー成膜装置
R & D およびパイロット規模の生産における超伝導、半導体、強誘電体薄膜の製作向けに設計された高エネルギーレーザー成膜システム。
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PVD コーティング装置
CMT-450B 先進レーザー成膜システム
CMT - 450B レーザー成膜システムは、超伝導、半導体、機能性薄膜の精密な成膜を実現します。研究と試作に最適です。
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PVD コーティング装置
薄膜用コンパクトマグネトロンスパッタリングシステム
ナノメートルスケールの膜作製用コンパクトマグネトロンスパッタリングシステム。学術およびR&D環境での金属、誘電体、半導体コーティングに適しています。
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PVD コーティング装置
二室式梨形マグネトロンスパッタリングシステム
R & D向けに金属、半導体、誘電体コーティングなどの多層薄膜を精密に堆積する二室式梨形マグネトロンスパッタリングシステムです。
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電子ビーム蒸着成膜システム
導電膜、光学膜、半導体膜の精密成膜に使用され、実験室環境で研究グレードの熱真空蒸着を支援するシステム。
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PVD コーティング装置
電子ビーム物理気相成長（EB - PVD）システム
EB - PVDシステムは、270º電子ビーム加熱とプラズマ支援表面洗浄を用いて、高融点金属およびセラミックスの高効率気相堆積を行います。
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PVD コーティング装置
高純度マグネトロンスパッタリング成膜システム
ナノ・マイクロ構造薄膜の作製用に設計されたマグネトロンスパッタリングシステム。柔軟なデュアルターゲットモードで金属、酸化物、窒化物、誘電体膜の堆積に対応します。
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PVD コーティング装置
レーザー分子線エピタキシー（MBE）システム
レーザーMBEシステムは、先端材料R&D向けに高融点、多元素、ガス含有材料などの複雑な薄膜のエピタキシャル成長を可能にします。
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PVD コーティング装置
洋ナシ形単室マグネトロンスパッタ成膜装置
ナノスケールの単層・多層薄膜向けに設計されたコンパクトなスパッタ成膜装置。学術研究や小規模な薄膜製作に適しています。
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単室式マグネトロンスパッタリングシステム
ナノ・マイクロ薄膜の均一堆積用に設計された単室式スパッタリングシステム。金属、誘電体、多層膜の研究に対応します。
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PVD コーティング装置
角形4室マグネトロンスパッタリングシステム
大面積薄膜成膜向けに設計された4室マグネトロンスパッタリングシステム。高真空または低真空下で結晶シリコンへの逐次または反応性金属堆積を実現します。
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