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Instrumento de medición del efecto Kerr a nivel de oblea

Este sistema utiliza MOKE polar para analizar de forma no destructiva las propiedades magnéticas de estructuras apiladas de obleas antes y después del patronado, con capacidad de medición de campo completo.

Wafer-Level Kerr Effect Measurement Instrument Ver imagen completa

1. Descripción del producto

El instrumento de medición del efecto Kerr a nivel de oblea ofrece potentes capacidades de campo magnético vertical y en el plano para la caracterización magnética avanzada a nivel de oblea.

  • Campos magnéticos: hasta 2.5 T en dirección vertical y 1.3 T en el plano, lo que permite invertir con precisión las capas libre, de referencia y fijada en apilamientos de películas MRAM con anisotropía perpendicular.
  • Sensibilidad de detección Kerr ultraalta: permite caracterizar simultáneamente cambios magnéticos sutiles en varias capas de película.
  • Al combinar la detección láser punto por punto con la imagen por barrido, el sistema genera rápidamente mapas de propiedades magnéticas de toda la oblea, ayudando a optimizar los procesos y controlar el rendimiento de producción.

Resultados de medición de los ciclos de histéresis de un apilamiento conjuntival de túnel magnético con anisotropía perpendicular

Diagrama de distribución de las características del campo coercitivo de una oblea de 8-inch con anisotropía magnética perpendicular

2. Características principales

  • Admite obleas de hasta 12 pulgadas, con plena compatibilidad con tamaños menores y pruebas de fragmentos.
  • Capacidad de campo elevado: campo vertical máximo de ±2.5 T, con resolución de 1 μT.
  • Sensibilidad de detección de la rotación Kerr mejor que 0.3 mdeg (RMS), ideal para caracterizar apilamientos de películas multicapa.
  • Posicionamiento preciso de la muestra: precisión de repetición mejor que ±1 μm; fluctuación estática ≤ ±0.25 μm.
  • Modos de exploración flexibles: punto único, matriz, distribución en anillo o listas de posiciones personalizadas.
  • Opciones de carga manual o funcionamiento totalmente automatizado para entornos de I+D y producción.

3. Especificaciones técnicas

3. Especificaciones técnicas
ParameterValue
Campo magnético vertical máximo ±2.5 T
Campo magnético máximo en el plano 1.3 T
Resolución del campo magnético 1 μT
Sensibilidad de rotación Kerr ≤ 0.3 mdeg (RMS)
Tamaño máximo de oblea 12-inch (compatible con tamaños menores)
Precisión de posicionamiento ±1 μm
Fluctuación estática ≤ ±0.25 μm

4. Muestras y aplicaciones ensayables

  • Estructuras apiladas MRAM de anisotropía vertical y matrices de dispositivos
  • Medios de disco de grabación magnética perpendicular (PMR)
  • Estructuras de películas multicapa para sensores magnéticos
  • Pruebas magnéticas de fragmentos o de obleas completas

Las aplicaciones incluyen:

  • Medición de ciclos de histéresis a nivel de oblea
  • Optimización de procesos y control de calidad
  • Extracción de parámetros magnéticos específicos de cada capa (Hc, Hex, Ms)

5. Configuración del sistema

  • Platina a nivel de oblea con alineación de precisión
  • Electroimán de campo elevado (vertical y en el plano)
  • Módulo de detección Kerr ultrasensible
  • Sistema integrado de barrido láser e imagen
  • Unidad de posicionamiento y control de movimiento automatizados

6. Funciones del software

  • Adquisición y procesamiento de datos en tiempo real
  • Extracción automática de ciclos de histéresis de las capas libre y fijada
  • Mapeo y visualización de propiedades magnéticas a escala de oblea
  • Patrones de barrido predefinidos y personalizables (punto único, matriz y anillo)
  • Funciones de exportación para la integración con bases de datos de I+D y producción

7. Información para pedidos

Modelo: Instrumento de medición del efecto Kerr a escala de oblea
Componentes estándar: Plataforma para obleas, electroimán, óptica Kerr, módulo de barrido láser, paquete de software

Precio y disponibilidad

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