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웨이퍼 수준 커 효과 측정기

극 MOKE로 패터닝 전후 웨이퍼 적층 구조의 자기 특성을 비파괴 분석하며 전체 시야 측정을 지원하는 시스템입니다.

Wafer-Level Kerr Effect Measurement Instrument 원본 이미지 보기

1. 제품 개요

웨이퍼 수준 커 효과 측정기 는 고급 웨이퍼 수준 자기 특성 평가를 위해 강력한 수직 및 면내 자기장 기능을 제공합니다.

  • 자기장: 수직 방향 최대 2.5 T 및 면내 방향 최대 1.3 T로, 수직 자기 이방성 MRAM 박막 적층 구조의 자유층, 기준층 및 고정층을 정밀하게 반전할 수 있습니다.
  • 초고감도 커 검출: 여러 박막층의 미세한 자기 변화를 동시에 특성 평가할 수 있습니다.
  • 레이저 점별 검출과 스캔 이미징을 결합하여 전체 웨이퍼의 자기 특성 맵을 빠르게 생성하고 공정 최적화 및 수율 관리를 지원합니다.

수직 자기 이방성 자기 터널 결막 적층 구조의 히스테리시스 루프 측정 결과

수직 자기 이방성을 갖는 8-inch 웨이퍼의 보자력 특성 분포도

2. 주요 특징

  • 최대 12 인치 웨이퍼를 지원하며, 더 작은 크기와 완전히 호환되고 조각 시험도 가능합니다.
  • 고자기장 성능: 최대 수직 자기장 ±2.5 T, 분해능 1 μT.
  • 커 회전 검출 감도는 0.3 mdeg(RMS)보다 우수하여 다층 박막 적층 구조의 특성 평가에 적합합니다.
  • 정밀 시료 위치 결정: 반복 정밀도 ±1 μm보다 우수, 정적 지터 ≤ ±0.25 μm.
  • 유연한 스캔 모드: 단일 지점, 배열, 링 분포 또는 사용자 지정 위치 목록.
  • 연구개발 및 생산 환경 모두를 위한 수동 로딩 또는 완전 자동 작동 옵션.

3. 기술 사양

3. 기술 사양
ParameterValue
최대 수직 자기장 ±2.5 T
최대 면내 자기장 1.3 T
자기장 분해능 1 μT
커 회전 감도 ≤ 0.3 mdeg (RMS)
최대 웨이퍼 크기 12-inch(더 작은 크기와 호환)
위치 결정 정확도 ±1 μm
정적 지터 ≤ ±0.25 μm

4. 시험 가능한 시료 및 응용

  • 수직 이방성 MRAM 적층 구조 및 소자 배열
  • 수직 자기 기록(PMR) 디스크 매체
  • 자기 센서용 다층 박막 적층 구조
  • 조각 또는 전체 웨이퍼 자기 시험

응용 분야:

  • 웨이퍼 수준의 히스테리시스 루프 측정
  • 공정 최적화 및 품질 관리
  • 층별 자기 매개변수 추출(Hc, Hex, Ms)

5. 시스템 구성

  • 정밀 정렬 기능을 갖춘 웨이퍼용 스테이지
  • 고자기장 전자석(수직 및 면내)
  • 초고감도 커 검출 모듈
  • 통합 레이저 스캔 및 이미징 시스템
  • 자동 위치 결정 및 모션 제어 유닛

6. 소프트웨어 기능

  • 실시간 데이터 획득 및 처리
  • 자유층 및 고정층의 히스테리시스 루프 자동 추출
  • 웨이퍼 수준 자기 특성의 매핑 및 시각화
  • 사전 설정 및 사용자 지정 스캔 패턴(단일 지점, 배열, 링)
  • 연구 개발 및 생산 데이터베이스와 통합하기 위한 내보내기 기능

7. 주문 정보

모델: 웨이퍼 수준 Kerr 효과 측정 장비
표준 구성품: 웨이퍼 스테이지, 전자석, Kerr 광학계, 레이저 스캔 모듈, 소프트웨어 제품군

가격 및 공급 가능 여부

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