Система атомно-слоевого осаждения (ALD)
Предназначена для роста сверхтонких диэлектрических плёнок по технологии ALD. Подходит для плёнок Al₂O₃, ZnO и прозрачных проводящих оксидов с точностью на атомном уровне.
Посмотреть продуктVectomag
Предназначена для R&D и опытного производства тонкоплёночных солнечных элементов с использованием материалов CIGS, таких как медь, индий, галлий и селен. Поддерживает непрерывную вакуумную обработку.
Открыть изображение
Технический запрос
Свяжитесь с нами для уточнения характеристик и комплектации. Расскажите об образце, диапазоне измерений, точности и условиях работы.
Запросить характеристикиСтоимость и наличие
Расскажите об образце, диапазоне измерений, точности и условиях работы. Укажите количество и место доставки.
Запросить предложение ↗