Sistema de deposición de capas atómicas (ALD)
Diseñado para crecer películas dieléctricas ultrafinas mediante tecnología ALD. Ideal para películas de Al₂O₃, ZnO y óxidos conductores transparentes con precisión a escala atómica...
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Diseñado para R&D y producción piloto de células solares de película delgada con materiales CIGS como cobre, indio, galio y selenio. Admite procesamiento continuo al vacío.
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