Vectomag

Система атомно-слоевого осаждения (ALD)

Предназначена для роста сверхтонких диэлектрических плёнок по технологии ALD. Подходит для плёнок Al₂O₃, ZnO и прозрачных проводящих оксидов с точностью на атомном уровне.

Atomic Layer Deposition (ALD) System Открыть изображение

Технический запрос

Обсудите ваши требования.

Свяжитесь с нами для уточнения характеристик и комплектации. Расскажите об образце, диапазоне измерений, точности и условиях работы.

Запросить характеристики

Стоимость и наличие

Запросите предложение на Система атомно-слоевого осаждения (ALD).

Расскажите об образце, диапазоне измерений, точности и условиях работы. Укажите количество и место доставки.

Запросить предложение ↗