Система атомно-слоевого осаждения (ALD)
Предназначена для роста сверхтонких диэлектрических плёнок по технологии ALD. Подходит для плёнок Al₂O₃, ZnO и прозрачных проводящих оксидов с точностью на атомном уровне.
Посмотреть продуктVectomag
Печь выращивания кристаллов SiC использует индукционный нагрев и физический перенос пара (PVT) для сублимации порошка SiC и выращивания высокочистых 6-дюймовых кристаллов карбида кремния.
Открыть изображение
Технический запрос
Свяжитесь с нами для уточнения характеристик и комплектации. Укажите прибор, диапазон измерений, размеры и требования к интерфейсу.
Запросить характеристикиСтоимость и наличие
Укажите прибор, диапазон измерений, размеры и требования к интерфейсу. Укажите количество и место доставки.
Запросить предложение ↗