Sistema de deposición de capas atómicas (ALD)
Diseñado para crecer películas dieléctricas ultrafinas mediante tecnología ALD. Ideal para películas de Al₂O₃, ZnO y óxidos conductores transparentes con precisión a escala atómica...
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Horno de crecimiento de cristales de carburo de silicio (SiC)
Este horno de crecimiento de cristales SiC utiliza calentamiento por inducción y transporte físico de vapor (PVT) para sublimar polvo SiC y crecer cristales de carburo de silicio de alta pureza de 6 pulgadas.
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Sistema de recubrimiento láser de precisión CMT-300
El sistema de recubrimiento láser CMT - 300 permite depositar con alta precisión películas superconductoras, semiconductoras y ferroeléctricas para aplicaciones académicas y de R &...
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Equipo de recubrimiento láser de alta energía CMT-450A
Sistema de recubrimiento láser de alta energía diseñado para fabricar películas delgadas superconductoras, semiconductoras y ferroeléctricas en R & D y producción a escala piloto.
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