PVD 코팅 장비
CMT-300 정밀 레이저 코팅 시스템
CMT - 300 레이저 코팅 시스템은 학술 및 R & D 박막 용도를 위한 초전도체, 반도체 및 강유전체 박막의 고정밀 증착을 지원합니다.
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새로운 발견을 위한 정밀 기기와 시스템.
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13 제품
PVD 코팅 장비
CMT-450A 고에너지 레이저 코팅 장비
R & D 및 파일럿 규모 생산에서 초전도, 반도체 및 강유전체 박막을 제작하도록 설계된 고에너지 레이저 코팅 시스템.
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CMT-450B 첨단 레이저 코팅 시스템
CMT - 450B 레이저 코팅 시스템은 초전도, 반도체 및 기능성 박막의 정밀 증착을 지원합니다. 연구와 시제품 제작에 적합합니다.
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박막용 소형 마그네트론 스퍼터링 시스템
나노미터 규모 박막 제조용 소형 마그네트론 스퍼터링 시스템으로, 학술 및 R&D 환경에서 금속, 유전체 및 반도체 코팅에 적합합니다.
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이중 챔버 배 모양 마그네트론 스퍼터링 시스템
R & D 용도로 금속, 반도체 및 유전체 코팅 등 다층 박막을 정밀하게 증착하는 이중 챔버 배 모양 마그네트론 스퍼터링 시스템입니다.
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전자빔 증착 코팅 시스템
전도성, 광학 및 반도체 박막의 정밀 코팅에 사용되며 실험실 환경에서 연구급 열 진공 증착을 지원하는 시스템입니다.
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전자빔 물리 기상 증착(EB - PVD) 시스템
EB - PVD 시스템은 270º 전자빔 가열과 플라즈마 보조 표면 세정을 사용하여 고융점 금속 및 세라믹의 고효율 기상 증착을 제공합니다.
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고순도 마그네트론 스퍼터링 코팅 시스템
나노/미세구조 박막 제조를 위해 설계된 마그네트론 스퍼터링 시스템으로, 유연한 이중 타깃 모드를 통해 금속, 산화물, 질화물 및 유전체 박막 증착을 지원합니다.
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레이저 분자선 에피택시(MBE) 시스템
레이저 MBE 시스템은 첨단 재료 R&D를 위해 고융점, 다원소 및 가스 함유 재료 등 복합 박막의 에피택셜 성장을 지원합니다.
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서양배형 단일 챔버 마그네트론 스퍼터 코터
나노 규모의 단층 및 다층 박막용으로 설계된 소형 스퍼터 코터. 학술 연구와 소규모 박막 제작에 적합합니다.
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단일 챔버 마그네트론 스퍼터링 시스템
나노 및 마이크로 박막의 균일한 증착을 위해 설계된 단일 챔버 스퍼터링 시스템으로, 금속, 유전체 및 다층 박막 연구를 지원합니다.
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사각형 4챔버 마그네트론 스퍼터링 시스템
대면적 박막 코팅용으로 설계된 4챔버 마그네트론 스퍼터링 시스템으로, 고진공 또는 저진공에서 결정질 실리콘에 순차적 또는 반응성 금속 증착을 지원합니다.
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