박막 성장 장비
원자층 증착(ALD) 시스템
ALD 기술로 초박막 유전체를 성장시키도록 설계되었습니다. 원자 규모 정밀도의 Al₂O₃, ZnO 및 투명 전도성 산화물 박막에 적합합니다.
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진공 공정 및 박막 증착
새로운 발견을 위한 정밀 기기와 시스템.
진공 공정 및 박막 증착
24 제품
PVD 코팅 장비
CMT-300 정밀 레이저 코팅 시스템
CMT - 300 레이저 코팅 시스템은 학술 및 R & D 박막 용도를 위한 초전도체, 반도체 및 강유전체 박막의 고정밀 증착을 지원합니다.
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PVD 코팅 장비
CMT-450A 고에너지 레이저 코팅 장비
R & D 및 파일럿 규모 생산에서 초전도, 반도체 및 강유전체 박막을 제작하도록 설계된 고에너지 레이저 코팅 시스템.
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PVD 코팅 장비
CMT-450B 첨단 레이저 코팅 시스템
CMT - 450B 레이저 코팅 시스템은 초전도, 반도체 및 기능성 박막의 정밀 증착을 지원합니다. 연구와 시제품 제작에 적합합니다.
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진공 멜트 스피닝
CMT-500e 전기 아크 진공 멜트 스피너
CMT - 500e는 고융점 금속의 아크 용융과 진공 조건에서 멜트 스피닝 또는 흡인 주조를 통한 합금 리본 생산용으로 설계되었습니다.
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진공 멜트 스피닝
CMT-500p 정밀 진공 멜트 스피닝 장비
CMT-500p는 진공 조건에서 고속 멜트 스피닝과 분무 주조를 지원하며, R & D 환경에서 비정질 합금 리본과 벌크 소재 생산에 적합합니다.
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진공 멜트 스피닝
CMT-500vt 진공 방사 시스템
CMT-500vt는 초미세 섬유와 필라멘트 생산을 위해 유도 용융, 멜트 스피닝 및 분무 주조를 통합한 진공 기반 용융 인발 시스템입니다.
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PVD 코팅 장비
박막용 소형 마그네트론 스퍼터링 시스템
나노미터 규모 박막 제조용 소형 마그네트론 스퍼터링 시스템으로, 학술 및 R&D 환경에서 금속, 유전체 및 반도체 코팅에 적합합니다.
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PVD 코팅 장비
이중 챔버 배 모양 마그네트론 스퍼터링 시스템
R & D 용도로 금속, 반도체 및 유전체 코팅 등 다층 박막을 정밀하게 증착하는 이중 챔버 배 모양 마그네트론 스퍼터링 시스템입니다.
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진공 아크 재용해로
전기 아크 진공 재용해로
진공 조건에서 고융점 금속과 합금을 정련하는 용해로로, 비정질 또는 첨단 재료 잉곳을 제조하는 흡입 주조를 지원합니다.
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PVD 코팅 장비
전자빔 증착 코팅 시스템
전도성, 광학 및 반도체 박막의 정밀 코팅에 사용되며 실험실 환경에서 연구급 열 진공 증착을 지원하는 시스템입니다.
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PVD 코팅 장비
전자빔 물리 기상 증착(EB - PVD) 시스템
EB - PVD 시스템은 270º 전자빔 가열과 플라즈마 보조 표면 세정을 사용하여 고융점 금속 및 세라믹의 고효율 기상 증착을 제공합니다.
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