Sistema de deposición de capas atómicas (ALD)
Diseñado para crecer películas dieléctricas ultrafinas mediante tecnología ALD. Ideal para películas de Al₂O₃, ZnO y óxidos conductores transparentes con precisión a escala atómica...
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Este horno de sinterización por prensado en caliente al vacío integra control de atmósfera, conformado por presión y sinterización a alta temperatura, ideal para investigar pulvimetalurgia y materiales cerámicos.
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