Sistema de deposición de capas atómicas (ALD)
Diseñado para crecer películas dieléctricas ultrafinas mediante tecnología ALD. Ideal para películas de Al₂O₃, ZnO y óxidos conductores transparentes con precisión a escala atómica...
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Utilizado para refinar metales y aleaciones de alto punto de fusión al vacío, este horno admite colada por succión para producir lingotes amorfos o de materiales avanzados.
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